原创 重大突破！纯国产光刻机问世，起步就是7纳米，5纳米也不在话下

从光源技术到光学系统，再到刻蚀与薄膜沉淀等各个工艺环节，国产光刻机企业均实现了技术突破。其中，极紫外（EUV）光源曾是ASML垄断的核心技术，也是我国被嘲讽“照着图纸也造不出”的技术，但新凯来通过与国内科研机构合作，成功研发出自主可控的高功率EUV光源。

与此同时，被德国垄断的光刻机镜头，奥普光电等也实现了高精度物镜的自主供应，而新凯来的“武夷山”刻蚀机、“长白山”CVD设备等，已能完美适配7nm及更先进制程。

新凯来的突破，不仅是一项技术成就，更将深刻改变全球半导体产业格局，可以预见的是，全新半导体产业以及全新光刻机产业的格局正在形成，而国产光刻机已经从“跟随”变成了“并行”，新开来的光刻设备已经覆盖了5-28nm全范围，这也是国产替代加速的最好证明。

在过去，中国制造的芯片对ASML公司、日本尼康、索尼以及应用材料等海外巨头十分依赖，从光刻机设备到光刻材料，处处都可能被“卡脖”，但现如今，以新凯来、上海微电子等为代表的中国科技企业，已经能够依靠自己的力量提供全套国产设备，这也让“100%国产替代”成为可能，降低了对美芯技术、设备和材料的依赖，从根本上降低了“卡脖”的风险。

还有一点，只有我们自己有，价格才能被“打”下来。在全世界都流传着一句话，只要中国企业涉足的领域，最终价格都会变成“白菜价”。在光刻机领域也不例外，在ASML公司垄断光刻机行业时，一台EUV光刻机的价格卖出了超1亿美元，但当时中芯国际交了钱还拿不到机器，这就太气人了。现如今，有国产光刻机的加入，有中国创新技术的竞争，这也迫使外国巨头不得不重新审视市场，重新思考定价！

光刻机的突破，不仅是技术的胜利，更是中国科技人“自力更生、艰苦奋斗”精神的体现。未来，中国半导体产业将继续攀登高峰，让全球看到——核心技术是买不来的，但凭借中国人的智慧，一定能创造更多的奇迹，航母、无人飞船、“两弹一星”以及5G等硬骨头都啃下来了，还差光刻机这一个吗？没在怕的！